在多晶硅生產過程中，三氯氫硅（SiHCl3）合成、氫還原和四氯化硅（SiCl4）氫化等工序中，副產的尾氣，含有氫氣（H2）、氯化氫（HCl）、二氯氫硅（SiH2Cl2）、三氯氫硅（SiHCl3）和四氯化硅（SiCl4）的尾氣。我公司針對此種尾氣氣源進行實驗研究，開發了氯硅烷和氯化氫專用吸附劑及配套的吸附分離工藝，可以將尾氣中的氯硅烷、氯化氫以及氫氣進行回收，凈化后尾氣中的氯硅烷含量降低到ppm及以下，降低了原料消耗，提高企業的經濟效益。
采用該技術后，只需對流程適當調整，就可將氫氣中的微量組分如CO、CO2、CH4、N2、O2等微量雜質脫除，大大提高氫氣品質，使多晶硅的產品質量穩定提高。
公司可根據用戶目前裝置實際情況，可對現有工藝進行局部改進或全新設計，達到理想的凈化回收效果。該技術具有完全的自主知識產權，效果優于進口技術，可為用戶帶來經濟效益、環保效益。
